2024年3月20日至22日，颇尔中国在上海新国际博览中心N4号展馆4471号为期三天的2024展会闪亮登场。 本次展会汇聚了1100多家半导体展商，现场人头攒动，成为业界焦点。

颇尔微电子全球副总裁、颇尔中国区总经理陈怀、颇尔微电子全球营销副总裁索尼、颇尔中国微电子事业部总经理陈雷等颇尔高管出席展会并介绍了公司的情况产品给客人。 目的和产品策略，耐心解答各种问题。 展位前，新老客户纷纷驻足分享市场最前沿的信息，搭建起一座沟通的桥梁。

作为过滤、分离和纯化解决方案的专家，颇尔很自豪能够展示用于工艺气体、浆料、湿法蚀刻化学品、溶剂、光刻胶和其他工艺消耗品的过滤产品。 观众可以近距离体验颇尔产品的精湛工艺。 我们知道，在半导体行业，卓越的产品质量和工艺至关重要。

同时，在线上，我们通过直播为您带来了一次酣畅淋漓的知识和技术分享。 我们的专家将与观众互动、回答问题并分享行业趋势和最佳实践。

光刻-光刻应用产品系列

-去除光刻胶中的颗粒和胶体。 尼龙和HDPE的不同材质适用于不同的应用场景。

-减少光刻过程中缺陷的发生

-光刻具有高精度、高洁净度、低金属离子沉淀、低有机物沉淀、低压损等特点。

湿法应用产品系列

-优异的化学相容性，适合恶劣的应用条件

-高精度、高流量、高洁净度、低金属离子、低有机物沉淀

CMP应用产品系列

-梯度孔径分布，拦截效率高，不改变磨料颗粒的粒径分布

-纳污量高、使用寿命长、压力损失低

-减少缺陷

气体过滤

-可用于过滤≥3nm的工艺气体

- 适用于不同温度、不同流量、不同点的各种反应气体和干燥空气的过滤

ll®熔喷过滤器产品系列

高效绝对精密深层熔喷滤芯，采用颇尔专业生产技术，可实现99.98%的过滤效率。 同时，专业的工艺、不断变化的孔隙结构、大范围的孔径和滤芯的深度共同实现了滤芯的优异使用寿命，可将滤芯的使用寿命延长高达六次。

®气体过滤产品系列

Pall® 顶部安装过滤器组件非常适合在集成气体输送系统中使用，并且可以从安装底座轻松拆卸和更换。 该组件可在高流速下运行，并可用于多种接口。

®6101系列采用PFA滤芯，精度≥3nm，设计紧凑，进出口不同尺寸和连接形式，大膜面积设计，实现低压差和高流量，广泛应用于半导体行业。

关于新加坡工厂

我很高兴借2024年的机会与大家分享颇尔即将在新加坡建设新工厂的消息。 这座新工厂将配备先进技术，其产品将主要服务于光刻和湿法蚀刻应用的过滤和净化需求。 它将推动湿法刻蚀和湿法刻蚀的进一步发展。

通过在新加坡和筑波的大规模投资，颇尔将能够更好地满足不断增长的半导体客户需求，打造更稳定的供应链和更高品质的产品。

虽然2024年已经结束

颇尔激动人心的故事尚未继续

展望2025年

再见